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光刻
光刻

設(shè)備

光刻

icon5x 步進(jìn)式光刻機(jī)

icon接近式光刻機(jī)

iconCD-SEM 量測(cè)設(shè)備

icon光刻套刻量測(cè)設(shè)備

icon涂膠顯影設(shè)備 / HMDS

icon掃描電子顯微鏡

icon光刻膠灰化設(shè)備

規(guī)格

icon光刻機(jī) 5x 步進(jìn)式最小分辨率 0.3 μm,,光刻機(jī) 1x aligner 最小分辨率 1 μm

icon光刻機(jī) 5x 步進(jìn)式套刻精度 ±0.11 μm,,光刻機(jī) 1x aligner 對(duì)位精度 3 μm

icon正膠 & 負(fù)膠 lift off 工藝

icon光刻膠種類厚度包含 0.4 μm - 80 μm 厚度區(qū)間,,以及感光性 polyimide

icon晶圓正面和背面對(duì)位精度 ±1 μm

接近式光刻機(jī)

接近式光刻機(jī)

涂膠顯影設(shè)備

涂膠顯影設(shè)備

CD-SEM量測(cè)設(shè)備

CD-SEM量測(cè)設(shè)備

5x 步進(jìn)式光刻機(jī)

5x步進(jìn)式光刻機(jī)





為什么選擇多維科技做為晶圓代工合作伙伴?

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多維科技建有國(guó)內(nèi)首條 8 英寸磁傳感器晶圓產(chǎn)線

多維科技xMR磁傳感器晶圓制造產(chǎn)線已運(yùn)營(yíng) 10 多年,,建有國(guó)內(nèi)首條 8 英寸磁傳感器晶圓產(chǎn)線,年產(chǎn)能達(dá) 10 億顆芯片,,配備了包含 xMR,、退火、刻蝕,、金屬互連,、光刻、去膠等復(fù)雜晶圓制造工藝的先進(jìn)設(shè)備,。多維科技晶圓制造產(chǎn)線的專業(yè)生產(chǎn)技術(shù)團(tuán)隊(duì)服務(wù)過多個(gè)磁傳感器晶圓制造項(xiàng)目,,擁有豐富的磁傳感器晶圓制造技術(shù)和經(jīng)驗(yàn),可助力客戶產(chǎn)品快速進(jìn)入市場(chǎng)和提高產(chǎn)品迭代進(jìn)度,。

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多維科技提供全方位晶圓代工服務(wù)

多維科技向客戶提供全方位的 8 英寸 xMR 磁傳感器晶圓代工服務(wù),,包括磁傳感器晶圓研發(fā)量產(chǎn)及測(cè)試服務(wù)。多維科技晶圓制造技術(shù)可達(dá)行業(yè)高標(biāo)準(zhǔn)要求,。晶圓測(cè)試服務(wù)包括晶圓測(cè)試程序開發(fā),,失效分析和可靠性測(cè)試等全面的測(cè)試服務(wù),。多維科技晶圓制造產(chǎn)線可根據(jù)客戶需求對(duì)生產(chǎn)工藝流程進(jìn)行快速優(yōu)化,,從而為客戶提供高效的晶圓代工服務(wù)。


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多維科技提供專業(yè)的設(shè)計(jì)和 IP 授權(quán)服務(wù)

多維科技晶圓代工設(shè)計(jì)服務(wù)可根據(jù)客戶需求,,提供磁傳感器設(shè)計(jì)或輔助設(shè)計(jì),,包括掩膜版設(shè)計(jì)、磁器件仿真和工藝流程開發(fā)等各種晶圓代工設(shè)計(jì)服務(wù),。同時(shí),,為了向客戶提供更好的晶圓代工設(shè)計(jì)服務(wù),多維科技還開放了知識(shí)產(chǎn)權(quán) (IP) 授權(quán)服務(wù),,客戶可根據(jù)設(shè)計(jì)需求將多維科技相關(guān)的 IP 整合進(jìn)自己的產(chǎn)品中,,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品開發(fā)量產(chǎn)進(jìn)一步的降本增效。



磁傳感器晶圓制造工藝